통합장비

일반적으로 다이어프램의 오염 여부를 판단하기 위해 막횡단압력차(TMP)를 측정합니다. TMP가 증가하는 데에는 두 가지 이유가 있을 수 있습니다.

1) 반응이 진행됨에 따라 주반응조의 여액은 지속적으로 농축되며 그 농도가 점차 증가하여 막 내부 표면과 외부 표면의 압력차가 점차 커지게 되는데, 이는 TMP가 증가함을 의미한다. 그러나 이때 다이어프램은 아직 오염되지 않았으며 다이어프램에는 여전히 어느 정도의 투과성이 있습니다.

2) 여과반응이 일정 수준까지 진행된 후, 여과액 중의 오염물질로 인해 멤브레인이 막히는 현상이 발생합니다. 이때 멤브레인은 오염되어 있으므로 세척이 필요합니다.

농축액의 농도 증가에 따른 TMP 증가 가능성을 제거하기 위해 TMP가 정상 작동 0-30Kpa에서 60Kpa 이상으로 변할 때 막 유량은 변하지 않고 유지됩니다. 멤브레인이 오염된 것으로 간주되어 청소를 위해 제거해야 합니다.

원수의 pH가 7.2~80이기 때문에 이온상태의 금속이온은 처리과정 전반에 걸쳐 지속적으로 산소와 접촉하여 산화물이나 수산화물로 산화됩니다. 그리고 세라믹 막여과 처리 후, 원수 중의 소수의 고체산화물과 공급액이 지속적으로 농축되어 새로운 산화물이 생성되며, 이는 막 표면에 부착되거나 원래 표면에 부착되어 있던 입자에 부착됩니다. 막, 막 오염을 일으키는 원인이 되는. 그러나 막오염물질 중 금속원소의 함량은 상대적으로 적고, 원수는 탈지조, 부유선광기 등의 공정을 통해 정화되지만 여전히 유성물질이 많이 함유되어 있다. 유성 물질은 점성이 더 높고 다이어프램 표면에 접착하기가 더 쉽습니다. 이는 다이어프램이 막히고 멤브레인 플럭스가 감소하는 주요 원인입니다. 세라믹 평막 유성 폐수 처리 과정에서 주요 오염 물질은 유성 오염 물질입니다. 산성 조건에서 오일과 지방은 가수분해 반응을 일으키고 생성된 카르복실산과 알코올 및 기타 저분자 유기 물질은 막 표면에서 분리되어 막 플럭스가 복원될 수 있습니다.

세라믹 멤브레인 세척 방법 선택
일반적으로 온라인 화학 세척은 평막 세척에 사용됩니다. 청소 주기는 멤브레인의 오염 정도에 따라 달라집니다.
세정제의 준비
가. 알칼리성 로션 : 차아염소산나트륨 {{0}mg/L와 수산화나트륨 1000mg/L의 혼합 수용액 또는 0.5% 차아염소산나트륨 용액을 별도로 조제한다(차아염소산나트륨 용액의 농도는 같다) 나. 염소화합물의 산화력으로 염소의 양(특히 소독제로 사용하는 경우):)

나. 산세액 : 1000mg/L 수산용액을 준비한다. 현장 청소 시, 세정액의 양은 위와 동일합니다.

프로젝트의 실제 요구 사항에 따라 두 가지 현장 화학 청소 방법을 채택할 수 있습니다. 첫 번째 방법은 중력 주입이며, 세척 탱크는 멤브레인 탱크의 액체 레벨 위에 있습니다(세척 시스템은 멤브레인 탱크에 있음). 두 번째 방법은 펌프 리프트 주입 방식으로 세척 탱크가 멤브레인 탱크의 액위 아래에 있습니다(세정 시스템은 지상 또는 액위 아래에 있음).

현장에서 화학적 세척으로 문제를 해결할 수 없는 경우 모듈에서 멤브레인 요소를 제거하고 브러시나 저압 물총으로 멤브레인 표면을 닦아야 합니다. 이것은 일반적으로 드뭅니다.

세라믹 다이어프램 표면의 오염물질 중 금속 원소 함량이 낮다는 것은 금속 산화물과 수산화물이 세라믹 다이어프램 오염의 주요 원인이 아니라는 것을 의미합니다. 오일 및 기타 유기 물질은 막 막힘 및 막 흐름 감소의 ​​주요 원인입니다.

오염된 세라믹 멤브레인을 처리하기 위해 수압 세척, 브러시 세척 등의 물리적인 방법을 사용하면 세라믹 멤브레인 표면에 부착된 큰 크기의 오염 물질만 제거할 수 있습니다. 멤브레인 플럭스의 회복 효과는 여전히 요구 사항을 충족할 수 없으며 추가 세척을 위한 화학적 세척이 필요합니다.

실제 검증 결과, 유성 폐수 처리 후 오염된 세라믹 멤브레인의 경우 산성 세정액이 알칼리성 및 강산화성 세정액보다 더 우수한 세정 효과를 나타냈습니다.